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半導體封裝行業用到的等離子清洗設備有哪些種類?

返回列表 來源:AG8亚游 瀏覽: 發布日期:2018-11-14 10:36【
文章導讀:[文章導讀] 半導體封裝行業由於其特殊性,比之於常規的電子產品對等離子設備的等離子均勻性、Particle數量、UPH等指標要求更高,一般要求在低壓(真空)狀態下進行等離子清洗。
半導體封裝行業用到的等離子清洗設備一般可按如下方式分類:

1、按等離子清洗設備的運行方式:分為獨立式等離子清洗設備和在線式等離子清洗設備
(1)獨立式(又叫離線式、單體式、批量式等)等離子清洗設備主要結構包括:真空腔體(包含電極;又叫反應腔、反應倉、反應室等)、設備外殼、電氣控製係統、氣路係統、等離子發生器(包括電源和匹配器)和真空係統。

等離子清洗機設備1
 

2)在線式(又叫連續式、不間斷式等)等離子清洗設備主要結構包括:上下料推送機構、上下料放置平台、上下料提升係統、上下料傳輸係統、上下料撥料機構、真空腔體、設備主體框架、電氣控製係統、氣路係統、等離子發生器(包括電源和匹配器)和真空係統。
 

等離子清洗設備2
 

在線式等離子清洗設備是在獨立式的基礎上,為滿足對表麵處理均勻性、一致性品質要求更高,以提高自動化程度,減少人工參與等需要設計而成。

 

2、按等離子產生的激勵方式分為:電容耦合(CCP)、感應耦合(ICP)和電子回旋共振(ECR)等

 

3、按等離子發生器的工作頻率來分:中頻(又叫低頻、超聲40〜100KHz),高頻(又叫射頻13.56MHz),微波(2.45GHz)

 

發頻率與等離子自偏壓的關係
 



 

激發頻率與等離子密度的關係
 

等離子清洗設備4

不同頻率激發的等離子體特性和能量是不一樣的,對於側重物理清洗的產品,用中頻等離子清洗設備比較合適;側重化學清洗的產品,采用微波等離子清洗設備;化學物理反應兼顧的,建議使用射頻等離子清洗設備。當然,等離子激發頻率隻是等離子產生的核心因素之一,等離子清洗設備的電極結構、工藝氣體、真空度、處理時間等等,同樣是影響清洗效果的關鍵。

 

以上對於半導體封裝行業用到的等離子清洗設備的分類您同意嗎?您有什麽異議或更好內容呢?歡迎大家留言與AG8亚游交流和分享。

 

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